Rusland ontwikkelt zijn eigen 11,2 nm EUV-lithografietechnologie

Thread Starter
Lid geworden
mrt 6, 2017
Berichten
71,400
Rusland is bezig met de bouw van zijn eigen extreem ultraviolet (EUV) lithografiemachines. Het maakt daarbij gebruik van een 11,2 nm golflengte in plaats van de meer gebruikelijke 13,5 nm die wordt gebruikt door ASML's systemen. Nikolay Chkhalo van het Russische Wetenschappelijke Academisch Instituut voor Microstructuurfysica neemt het voortouw, in de hoop lithografieapparatuur te maken die goedkoper en minder ingewikkeld is. ... verder lezen
 
Als je dit bericht niet wil zien, registreer je dan of log in.
TechnologyInsider maakt geen gebruik van externe reclame en tracking cookies. Op deze website tref je alleen cookies aan die het comfort verhogen van het gebruik van deze website. Door het gebruik van deze website verklaar je je akkoord met het gebruik van deze cookies. Meer informatie treft je aan in onze privacyverklaring..


Terug
Bovenaan Onderaan refresh