TI News Bot
News
Thread Starter
- Lid geworden
- mrt 6, 2017
- Berichten
- 71,400
Rusland is bezig met de bouw van zijn eigen extreem ultraviolet (EUV) lithografiemachines. Het maakt daarbij gebruik van een 11,2 nm golflengte in plaats van de meer gebruikelijke 13,5 nm die wordt gebruikt door ASML's systemen. Nikolay Chkhalo van het Russische Wetenschappelijke Academisch Instituut voor Microstructuurfysica neemt het voortouw, in de hoop lithografieapparatuur te maken die goedkoper en minder ingewikkeld is. ... verder lezen