Advertentie
Rusland is bezig met de bouw van zijn eigen extreem ultraviolet (EUV) lithografiemachines. Het maakt daarbij gebruik van een 11,2 nm golflengte in plaats van de meer gebruikelijke 13,5 nm die wordt gebruikt door ASML's systemen. Nikolay Chkhalo van het Russische Wetenschappelijke Academisch Instituut voor Microstructuurfysica neemt het voortouw, in de hoop lithografieapparatuur te maken die goedkoper en minder ingewikkeld is.
Deze nieuwe Russische EUV-machines zullen lasers gebruiken die worden aangestuurd door xenon, waarmee ze afstappen van ASML's tin-gebaseerde aanpak. Chkhalo beweert dat deze golflengte van 11,2 nm een 20 procent hogere resolutie oplevert en het ontwerpen van de optica eenvoudiger kan maken, terwijl de productiekosten laag blijven. Het zou ook een manier zijn om verontreiniging in de optische elementen te verminderen, wat zou moeten helpen om belangrijke onderdelen, zoals collectoren en beschermende pellicles, langer mee te laten gaan.
De productie zal niet zo grootschalig worden als de mogelijkheden van ASML, slechts 37 procent van ASML's doorvoer. Daarbij maken de Russische machines gebruik van een 3,6 kW lichtbron. Door over te stappen op de 11,2 nm-golflengte moet een heel nieuw ecosysteem gecreërd, zoals speciale spiegels, coatings, maskerontwerpen en fotoresists. Zelfs de softwaretools voor chipontwerp moet flink worden aangepast, met name voor de voorbereiding van maskergegevens en optische correcties.
Er is nog geen tijdlijn vastgelegd voor deze ontwikkelingsstappen, maar experts denken dat het bouwen van een compleet lithografie-ecosysteem tien jaar of langer kan duren. Ze hebben ook nog niet onthuld welke procesknooppunten deze nieuwe tools zullen ondersteunen.
