DUV
-
ASML CEO stelt dat Chinese concurrenten nog ruim 10 jaar achterlopen op gebied van EUV, maar niet op het gebied van DUV
Sinds het exportverbod vanuit de Verenigde Staten voor Extreme Ultra Violet (EUV) lithografiemachines naar China, hebben Chinese chipfabrikanten de nodige moeite om zich verder te ontwikkelen. SMIC heeft in samenwerking met Huawei mooie stappen gemaakt wanneer het gaat om Deep Ultra Violet (DUV) lithografie, maar volgens ASML-topman Christophe Fouquet zal het nog zeker 10 tot 15 jaar duren eer de bedrijven ook EUV-machines zelf kunnen... [meer] -
Concurrentie voor ASML? Canon levert eerste nanoprint-lithografiemachine
Canon heeft zijn allereerste nanoprint-lithografiemachine, de FPA-1200NZ2C, geleverd aan het Texas Institute for Electronics (TIE). Met deze machine positioneert Canon zich als een betaalbaar alternatief voor de ultraviolette (EUV) en diepe ultraviolette (DUV) fotolithografietechnologie van ASML, de Nederlandse marktleider. Betaalbaar alternatief voor EUV? Canon onthulde de FPA-1200NZ2C in oktober 2023 en prees de machine om zijn... [meer] -
Micron neemt EUV-machines in gebruik in navolging van andere grote DRAM-producenten
Het is de bedoeling dat de massaproductie van DRAM uit EUV-machines van start gaat in 2025. Hiervoor introduceert het bedrijf ook een nieuwe process-node genaamd 1-gamma. Deze naamgevingen worden veel in de DRAM-industrie gebruikt omdat het verkleinen van het productieprocedé niet zoveel voordelen oplevert als bij processors of gpu’s. Toch is de mogelijkheid om kleinere patronen te graveren in het silicium een voordeel gezien de overstap naar... [meer]